硅胶产品怎么去除静电,解决表面防尘问题
要生产出令客户满意的硅橡胶制品,表面处理工艺就很重要,除了印刷之外,还有就是要做好防尘。因为硅胶含有静电,这就使得产品很容易吸附灰尘、杂质和毛发。那么硅胶产品怎么去除静电,解决表面防尘问题呢?
理论上,硅胶表面存有氧气原子,带负极和静电,尘粒则带有正极,因此尘粒和硅胶静电表面可互相吸引,使表面沾尘难于清理,影响产品外观。针对硅胶表面容易沾尘的问题,硅胶制品厂致力研究解决方案,结果发现,利用等离子表面改性技术可改善有关表现,最终成功以等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)技术,达到优化产品表面性质的效果。
受静电影响,一般硅胶容易沾尘,厂商若以传统化学涂层方法,防尘及润滑涂层功效只可维持数个月。好的方法是以等离子能量将硅胶表面的氧气原子改性,将负极硅胶表面改为正极,过程中使用无害的有机化学品,不会排出污染废料,因此是清洁生产工艺。其较低静电量特质,防尘效用高,适用于手表表带等,亦可用于医疗设备。
等离子体表面处理技术适用于纤维、聚合物和塑胶等物料,亦可应用于清洗、活化及蚀刻金属、塑胶与陶瓷材料的表面部分,改变材料表面的物理特征。硅胶产品防尘处理环保工艺,可有效解决硅胶静电、容易沾尘问题,延长产品寿命,是一种硅胶表面处理工艺。它可应用于所有硅胶及相关产品。
高能量脉冲式等离子磁控溅射技术(HPPMS)是结合「高能量」和「脉冲式」两大特征的新型磁控溅射系统。在镀层过程上,电源扮演重要的角色,采用「高能量」和「脉冲式」的放电方式,可于少于2微秒的短时间,发出高达1500V输出电压的强大能量,犹如闪电现象。由于过程中释放大量的离子,消除镀膜的内应力,因此可制成厚离子镀层,无损产品或工件的表面。这种方式可提高离化率(IonizationRate),即改善涂层在产品表面的附着力。
高能量脉冲式等离子磁控溅射技术,能超越传统的磁控溅射方法,制作出高质量多于3μm的厚离子镀层。由于高能量脉冲方式有利增加离子的密度,不但加强镀层与底材之间的接合力,亦可减低表面粗糙度,在功能性部件上可进一步增强耐磨性能及减少替换次数。
对装饰性强的硅胶产品来说,可保持外观及更耐用,因此以高能量脉冲式制作镀层,能有效利用等离子体,从而控制涂层的结构,其特点是可沉积在光滑致密的微细结构,提升耐腐蚀性及表面光洁度。又或是可沉积在复杂的几何工件之上,达致更均匀的涂层。
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